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  • 線性硅納米印章(納米圖案硅片 光柵微透鏡陣列)

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    更新時(shí)間：2026-08-03
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  • 1550nm 均勻光柵相位掩模 光柵微透鏡 Ibsen丹麥

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    更新時(shí)間：2024-12-07
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  • MASK-1538-1062-10X101538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片）

    1538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片） 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。

    更新時(shí)間：2024-12-07
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  • 1526nm 均勻光柵相位掩模 （色散勻化片）

    1526nm 均勻光柵相位掩模 （色散勻化片） 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。

    更新時(shí)間：2024-12-07
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  • 帶通濾光片 760nm 帶寬37nm

    帶通濾光片 760nm 帶寬37nm 產(chǎn)品總覽 光譜測(cè)量 每種濾光片類型均提供室溫和垂直入射角下的光譜曲線。 描述：BP-CWL-HW 以納米為單位（HW 50 % Tpeak） 單擊描述，查看庫存濾光片的光譜特性。

    更新時(shí)間：2024-12-07
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